index multimedia

Traitement d’un édentement unitaire en sites postextractionnels

implant tissus

Ligne du sourire de la patiente.

Dossier : Mise en charge immédiate | Positionnement des implants

Mots clés : Ligne du sourire | positionnement des implants

Examen clinique.

espace biologique

Vue rapprochée de la 11, dont l’extraction est nécessaire.

Dossier : Mise en charge immédiate | Positionnement des implants

Mots clés : extractions dentaires

Radiographie préopératoire.

radiographie scanner, retroalveolaire

Radiographie rétro-alvéolaire préopératoire et radiographie scanner de la 11. Le canal palatin est volumineux.

Dossier : Mise en charge immédiate | Positionnement des implants

Mots clés : radiographie scanner

Incision palatine

distance implant

Incision palatine. Elle permet de localiser l’obstacle anatomique.

Dossier : Mise en charge immédiate | Positionnement des implants

Mots clés : Cicatrisation des gencives | Cicatrisation osseuse

Forage avec son inclinaison palatine.

x

Forage avec son inclinaison palatine.

Dossier : Mise en charge immédiate | Positionnement des implants

Mots clés : forage

Mise en charge immédiate.

position

Un implant PREVAIL intégrant le platform-switching est positionné 3,5 mm en dessous du rebord gingival. Le rebord gingival est 3,5 mm au-dessus du col implantaire.

Dossier : Mise en charge immédiate | Positionnement des implants

Mots clés : positionnement des implants | mise en charge immédiate | platform switching

Situation clinique après pose de l’implant.

positionnement des implants

Situation clinique après pose de l’implant. Le hiatus est particulièrement important en position mésiale.

Dossier : Mise en charge immédiate | Positionnement des implants

Mots clés : pose implantaire guidée

Comblement du hiatus.

surface lisse ou rugueuse de l'implant

Comblement du hiatus. L'espace est comblé sur une profondeur d’environ 2 mm avec des copeaux osseux récupérés lors du forage transapical. Noter la protection de la vis de couverture posée au préalable, elle empêche la pénétration du matériel osseux dans l’orifice de la tête de l’implant

Dossier : Mise en charge immédiate | Positionnement des implants

Mots clés : hiatus | comblement osseux

Suture autour du pilier de cicatrisation.

surface lisse ou rugueuse de l'implant

Suture autour du pilier de cicatrisation.

Dossier : Mise en charge immédiate | Positionnement des implants

Mots clés : suture

Radiographie de contrôle avec le pilier de cicatrisation.

surface lisse ou rugueuse de l'implant

Radiographie de contrôle avec le pilier de cicatrisation. Le platform switching a été appliqué.

Dossier : Mise en charge immédiate | Positionnement des implants

Mots clés : pilier de cicatrisation | platform switching

Cicatrisation des tissus mous

surface lisse ou rugueuse de l'implant

Seconde couronne provisoire après 6 mois de cicatrisation des tissus mous

Dossier : Mise en charge immédiate | Positionnement des implants

Mots clés : cicatrisation des gencives

Gestion d’un hiatus réalisé après insertion de l’implant.

surface lisse ou rugueuse de l'implant

a) Hiatus inférieur à 1,5 mm. En deçà de 1,5 mm, il n'est pas nécessaire d’entreprendre le comblement du hiatus.
b) Hiatus supérieur à 1,5 mm. Au-delà de 1,5 mm, il est nécessaire d'entreprendre le comblement du hiatus. Il est comblé au niveau des deux millimètres de sa partie supérieure. La partie inférieure ne nécessite pas comblement.

Dossier : Mise en charge immédiate | Positionnement des implants

Mots clés : Hiatus